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日本SAMCO 深硅蝕刻設備 RIE-400iP

簡要描述：The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng)，它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導體蝕刻。

  • 更新時間：2024/10/25 0:00:00
  • 訪  問  量：589
  • 產(chǎn)品型號：RIE-400iP
詳細介紹

 

 

The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng)，它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導體蝕刻。


該系統(tǒng)專為研發(fā)和中試生產(chǎn)客戶設計，需要高規(guī)格，多功能和強大的系統(tǒng)，具有出色的工藝技術(shù)。

 

 

 

系統(tǒng)配置


●  配備先進的ICP源：HSTC™(Hyper Symmetrical Tornado Coil) 可
    實現(xiàn)高度均勻且精確的蝕刻
●  獨創(chuàng)的ESC (靜電卡盤)提高了導熱性，可使晶圓片的溫度
    更為均勻
●  高速排氣系統(tǒng)且占地面積小
●  強化腔室設計，實現(xiàn)工藝穩(wěn)定性和可重復性
●  優(yōu)秀的工藝庫和技術(shù)
●  高達ø4“(100毫米)晶圓
●  人性化的操作界面
●  易于維護

 

 應用場景 

尺寸

 

 

 

GaN Power Device

GaAs VCSEL

 

InP Laser
(Cone shaped ICP Coil)

 

設備參數(shù)

 

 

 

常務需求

 

 

 

 

 

 

 

 


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